光催化氧化装置的主要原理是利用光催化剂锐钛型二氧化钛（tio2），二氧化钛（tio2）作为 种新的光催化半导体材料，是近年来发展的新技术，光催化氧化装置的光催化剂是光催化过程的关键部分，其活性的高低严重影响光催化效果。目前所用的光催化剂二氧化钛（tio2）的光催化活性，是目前广泛使用的光催化剂。

在室温下，当uv紫外线光灯，波长在253.7nm以下的光量子照射到二氧化钛颗粒上时，跃迁到导带形成自由电子。二氧化钛而在价带形成 个带正电的空穴，这样就形成电子－空穴对。利用所产生的空穴的氧化及自由电子的还原能力，二氧化钛和表面接触的水分h2o和o2发生反应，产生氧化力 强的自由基，这些自由基几乎可分解和断裂所有有机物的官能键，改变废气中有机物分子的结构,并将其所含的氢（h）和碳（c）变成水和二氧化碳，有机废气中得到降解和净化。光催化氧化装置在处理废气的同时，同时也具有较好的脱臭功能。